影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:IEEE T DIELECT EL IN
期刊全称:IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION
ISSN1070-9878
影响因子2023:2.935 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Essential Science Indicators

派博
系数		SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION历年派博系数(Pindex)
派博
系数
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占比		SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION历年拒稿占比
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周期		SCIE期刊IEEE T DIELECT EL IN审稿周期 派博传思
审稿
周期
排名		IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION审稿周期排名@SCIE应用物理 派博传思
体裁
题材		SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON DIELECTRICS AND ELECTRICAL INSULATION体裁与题裁多样性
专业
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IEEE T DIELECT EL IN中国大陆署名作者占比 @ SCIE物理，应用
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IEEE T DIELECT EL IN图表质量排名@SCIE物理，应用
SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年2.935
2022年3.166
2021年2.509
2020年2.931
2019年2.554
2018年2.135
2017年1.774
2016年2.115
2015年1.306
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年65/159
2022年66/160
2021年88/161
2020年65/160
2019年61/155
2018年71/148
2017年73/146
2016年57/148
2015年90/145
SCIE期刊索引论文
2023年336
2022年287
2021年259
2020年266
2019年255
2018年288
2017年448
2016年438
2015年436
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年52/159
2022年56/160
2021年25/161
2020年30/160
2019年26/155
2018年27/148
2017年24/146
2016年24/148
2015年25/145
SCIE期刊总引频次
2023年13307
2022年14,102
2021年12,962
2020年13,063
2019年11,401
2018年11,099
2017年8,777
2016年9,056
2015年5,738
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年52/159
2022年49/160
2021年48/161
2020年44/160
2019年40/155
2018年38/148
2017年42/146
2016年40/148
2015年52/145
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年52/159
2022年49/160
2021年48/161
2020年44/160
2019年40/155
2018年38/148
2017年42/146
2016年40/148
2015年52/145
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2023年52/159
2022年49/160
2021年48/161
2020年44/160
2019年40/155
2018年38/148
2017年42/146
2016年40/148
2015年52/145
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2023年52/159
2022年49/160
2021年48/161
2020年44/160
2019年40/155
2018年38/148
2017年42/146
2016年40/148
2015年52/145

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