期刊全称: | JOURNAL OF LASER APPLICATIONS |
影响因子2023: | 1.733 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新) |
发行地址: | 1305 WALT WHITMAN RD, STE 300, MELVILLE, USA, NY, 11747-4501 |
索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded); Current Contents Electronics & Telecommunications Collection; Current Contents Engineering, Computing & Technology; Essential Science Indicators
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派博 系数 | SCIE期刊JOURNAL OF LASER APPLICATIONS历年派博系数(Pindex)
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派博 系数 专业 排名 | JOURNAL OF LASER APPLICATIONS派博系数(Pindex)学科排名@SCIE材料科学及交叉学科
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拒稿 占比 | SCIE期刊JOURNAL OF LASER APPLICATIONS历年拒稿占比
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拒稿 占比 排名 | JOURNAL OF LASER APPLICATIONS拒稿率学科排名@SCIE材料科学及交叉学科
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审稿 周期 | SCIE期刊J LASER APPL审稿周期 派博传思
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审稿 周期 排名 | JOURNAL OF LASER APPLICATIONS审稿周期排名@SCIE材料科学及交叉学科 派博传思
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体裁 题材 | SCIE期刊JOURNAL OF LASER APPLICATIONS体裁与题裁多样性
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专业 排名 | JOURNAL OF LASER APPLICATIONS体裁与题裁多样性排名@SCIE材料科学及交叉学科
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浏览 下载 频次 | SCIE期刊J LASER APPL浏览与下载频次 派博传思
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浏览 下载 频次 排名 | J LASER APPL浏览与下载频次排名@SCIE材料科学,多学科
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| J LASER APPL中国大陆署名作者数量
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| J LASER APPL中国大陆署名作者占比 @ SCIE材料科学,多学科
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| J LASER APPL图表质量
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| J LASER APPL图表质量排名@SCIE材料科学,多学科
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