| 期刊全称: | INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS |
| 影响因子2023: | 1.196 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新) |
| 发行地址: | NIEUWE HEMWEG 6B, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1013 BG |
| 索引数据库: | SCIE (Science Citation Index Expanded);
Essential Science Indicators
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派博
系数 | SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS历年派博系数(Pindex)
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派博
系数
专业
排名 | INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS派博系数(Pindex)学科排名@SCIE应用物理
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拒稿
占比 | SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS历年拒稿占比
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拒稿
占比
排名 | INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS拒稿率学科排名@SCIE应用物理
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审稿
周期 | SCIE期刊INT J APPL ELECTROM审稿周期 派博传思
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审稿
周期
排名 | INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS审稿周期排名@SCIE应用物理 派博传思
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体裁
题材 | SCIE期刊INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS体裁与题裁多样性
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专业
排名 | INTERNATIONAL JOURNAL OF APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS体裁与题裁多样性排名@SCIE应用物理
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浏览
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频次 | SCIE期刊INT J APPL ELECTROM浏览与下载频次 派博传思
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频次
排名 | INT J APPL ELECTROM浏览与下载频次排名@SCIE物理，应用
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| INT J APPL ELECTROM中国大陆署名作者数量
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| INT J APPL ELECTROM中国大陆署名作者占比 @ SCIE物理，应用
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| INT J APPL ELECTROM图表质量
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| INT J APPL ELECTROM图表质量排名@SCIE物理，应用
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