影响因子 > SCIE > 物理学-流体与等离子体
期刊简称:PLASMA SOURCES SCI T
期刊全称:PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY
ISSN0963-0252
影响因子2023:3.378 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(物理学-流体与等离子体)-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
出版商:IOP PUBLISHING LTD
发行地址:TEMPLE CIRCUS, TEMPLE WAY, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators

派博
系数
SCIE期刊PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY历年派博系数(Pindex)
派博
系数
专业
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PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY派博系数(Pindex)学科排名@SCIE物理学-流体与等离子体
拒稿
占比
SCIE期刊PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY历年拒稿占比
拒稿
占比
排名
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY拒稿率学科排名@SCIE物理学-流体与等离子体
审稿
周期
SCIE期刊PLASMA SOURCES SCI T审稿周期 派博传思
审稿
周期
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PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY审稿周期排名@SCIE物理学-流体与等离子体 派博传思
体裁
题材
SCIE期刊PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY体裁与题裁多样性
专业
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PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY体裁与题裁多样性排名@SCIE物理学-流体与等离子体
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SCIE期刊PLASMA SOURCES SCI T浏览与下载频次 派博传思
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PLASMA SOURCES SCI T浏览与下载频次排名@SCIE物理学、流体和等离子体
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PLASMA SOURCES SCI T中国大陆署名作者占比 @ SCIE物理学、流体和等离子体
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PLASMA SOURCES SCI T图表质量排名@SCIE物理学、流体和等离子体
SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年3.378
2022年3.887
2021年4.124
2020年3.584
2019年3.193
2018年4.128
2017年3.939
2016年3.302
2015年2.808
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年6/34
2022年5/34
2021年6/34
2020年5/34
2019年7/34
2018年2/32
2017年3/31
2016年3/31
2015年4/30
SCIE期刊索引论文
2023年240
2022年287
2021年269
2020年291
2019年227
2018年249
2017年186
2016年180
2015年215
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年10/34
2022年9/34
2021年23/34
2020年20/34
2019年21/34
2018年20/32
2017年21/31
2016年22/31
2015年20/30
SCIE期刊总引频次
2023年11971
2022年11,592
2021年12,056
2020年9,901
2019年8,063
2018年8,014
2017年7,391
2016年5,922
2015年5,495
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年10/34
2022年11/34
2021年10/34
2020年11/34
2019年12/34
2018年11/32
2017年11/31
2016年11/31
2015年11/30
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年10/34
2022年11/34
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2020年11/34
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2016年11/31
2015年11/30

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